美国发明了光刻胶，最后为何却是日本垄断了市场？

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众所周知，在芯片的生产过程中，光刻是至关重要的一环，甚至可以说芯片制造技术的提升，很大程度上就是因为光刻技术的进步，光刻的精度高了，所以芯片制造工艺就提高了。

而在光刻的过程中，需要用到光刻机、光源、光刻胶等关键设备和材料，所以相应的光刻配套这些年也是发展非常快。

而在这些配套中，光刻机经常被人提及，像光源、光刻胶提及的人少一些，但事实上光刻胶、光源和光刻机一样是非常重要的产品。

其中光刻胶是1950年左右诞生的，1950年的时候，贝尔实验室尝试开发全球首块集成电路的过程中，采用了重铬酸盐明胶体系，至此半导体光刻胶诞生，并成为了后来生产芯片中必不可少的一种材料。

后来随着芯片制造水平的提升，光刻胶也是不断的发展，但发明了光刻胶的美国，却没有垄断市场，日本的企业占了半导体光刻胶75%左右的市场。

那么明明是美国发明的产品，为何日本能够后来者居上，最终垄断市场了呢？这要从三个方面说起。

1、日本光刻机和光刻胶的发展

我们知道光刻胶和光刻机是配合使用的，具有协同效应，而在ASML崛起之前，最开始的美国的光刻机最强，后来日本的光刻机发展起来，像Canon、Nikon打败了美国的厂商，在80、90年代，是最顶级的光刻机厂商。所以自然而然的日本的光刻胶伴随着日本的光刻机崛起了。

2、半导体分工模式的产生

后来ASML崛起，打败了Canon、Nikon，按道理说日本的光刻胶会就此没落了。但此时也就是21世纪末，随着台积电的崛起，半导体领域进行了一个次大调整。

这次的调整是产业链分离，比如芯片设计、制造分离，甚至材料、设备等都分享，很多企业只专注于干一件事，而不是以前半导体领域的厂商什么都要干。

这时候荷兰的ASML只专注于生产光刻机，同时荷兰也没有配套光刻胶，所以依然是日本的光刻胶占垄断地位。

再加上后来美国的打压，导致日本半导体产业转移和升级，日本虽然芯片制造没落了，光刻机也没落了，但日本半导体进行产业升级，全面转向材料等领域，所以光刻胶成了日本重点发展的产品之一。

所以最后光刻胶这个产品，依然被日本企业牢牢的掌握在手中，并没有因为是产业转移而没落，反而越来越强了。

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