中芯国际首条14纳米芯片生产线正式投产,打破台积电和三星的垄断

Mark wiens

发布时间:2020-06-18

北京12月10日讯(记者 朱国旺 杨奇奇) 12月8日,国家药监局发布的对苍南老中医化妆品有限公司飞行检查通报显示,该企业不符合《化妆品生产许可检查要点》的有关规定。据国产非特殊用途化妆品化妆芒果系统

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国内首条14纳米制程工艺的生产线实现量产,说明国内的芯片制造技术又向前迈了一步,迟早会追上国际先进水平,只不过要清醒的认识到这条生产线所用的光刻机还不是国产,而是进口ASML公司的DUV光刻机。据报道称这条14纳米制程工艺的生产线在2019年第三季度实现了量产,之后中芯国际南方厂将还建成两条月产能均为3.5万片的先进集成电路生产线,这么来看,用到14纳米制程工艺的芯片都可以立足于国内进行生产,至于这条生产线的生产状况现在如何,并没有太多的消息报道出来。

众所周知,芯片的能耗和性能与制程工艺息息相关,越低的制程工艺,就意味着同样面积的芯片上可以放置更多的晶体管,性能也更强,此外晶体管的体积越小,发热也就越少。这就是说越小的制程工艺,可以带来性能和功耗的双提升。在这条14纳米生产线建造之前,国内最好的制造工艺还是中芯国际于2013年开发的28纳米制程。可以说在6年时间里国内的芯片制程工艺没有大的突破,但是突破了14纳米制程工艺之后,就可以向10纳米,7纳米制程工艺进发了。中芯国际的14纳米制程工艺芯片的良率已经达到了95%,已经没有了量产的阻碍。下一步就是直逼7纳米制程的N+1和N+2制程工艺了,也就是说会直接跨过10纳米制程工艺。

要知道有了光刻机并不一定可以制造出先进制程的芯片,台积电可以用DUV光刻机研发出7纳米制程工艺,但是三星和其他厂商就不行,这就是技术和工艺问题,虽说中芯国际用的光刻机不是国产的,但是贵在掌握了芯片制造的先进工艺。从这个意义上来说要比有先进的光刻机更加重要,毕竟国内制造出EUV光刻机只是时间问题,当研发出来后直接替换掉ASML的产品就行,国内28纳米制程工艺的光刻机快要交付了,届时完全可以替换掉ASML的光刻机,用于中芯国际研发的14纳米,N+1,N+2制程生产线,以打破米国的封锁。

主要就是这条14纳米制程工艺的生产线,使用的并非国产设备,在根本上容易受制于人,也就是这次米国发动的制裁,导致中芯国际也无法为某些客户制造芯片,所以说除了掌握先进的制造工艺之外,还要掌握先进的光刻机,必须要立足于国内生产,完全使用国产配件,这样不仅仅会带动就业,也不会再受制于人了,国内首条14纳米制程工艺的生产线实现量产有着重大的意义。

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