中国芯的好消息:跳过65/40nm,国产光刻机马上进入28nm时代

Mark wiens

发布时间:2020-06-09

众所周知,经过这么10多年的发展,中国产手机早已摆脱了“山寨机”的低劣形象了。从全球市场来看,2019年中国品牌甚至占了50%+的市场份额,不仅中国消费者喜欢,更是深得海外消费者的喜欢。安道全与王定六

中国芯的好消息:跳过65/40nm,国产光刻机马上进入28nm时代安道全与王定六

众所周知,光刻机是芯片制造过程中必不可少,至关重要的一种设备,在芯片制造过程中,可能占了近40%的工时,在芯片制造设备中,占了25%左右的成本。

但这么重要的一款设备,国产水平较国际领先水平却落后较远,最强的ASML的光刻机已经能够生产5nm的芯片,但国产最强的上海微电子,仅能量产用于90nm芯片工艺的光刻机。

很多人认为这中间的差距巨大,至少是10年以上,毕竟从90nm到5nm这中间还有很多槛,一步一台阶,也够上海微电子走很多年了。

但没想到的是,近日有消息报道称,上海微电子在之前90nm的基础上,宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机,直接跳过了中间的65nm、40nm,这标志着国产光刻机的飞跃进步,虽然还落后,但至少看到了追上的希望。

其实说真的,虽然和ASML比起来,上海微电子似乎技术有那么一点落后,但其实上海微电子也并不差,目前是国内最重要的半导体设备供应商之一。

而在光刻机领域,虽然主要是低端的,但国内市场占有率高达80%,全球也能够排第四名。公司LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先,LED光刻机市占率第一。

另外,上海微电子目前有4个系列光刻机产品,目前所生产的600系列光刻机,虽然还是只能用于90nm的芯片,但可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产,满足国内低端芯片的生产没有问题的。

虽然28nm光刻机与ASML目前最先进的5nm EUV光刻机相比,仍有着很大的差距,但是对于中国的半导体产业以及上海微电子自身来说都是意义非凡。

目前中芯国际有80%以上的营收是28nm或以上制程的,甚至台积电28/40/45/65nm的总体营收占比都高达30%,这台28nm光刻机的重要性可见一斑了。

安道全与王定六 原标题:董明珠卖口罩的50多天:从中签率不足1%,到现在100% 众所周知,因为疫情的影响,自2020年以来,众多的企业开始制造口罩,有些是新成立的口罩企业,有些是大企业转产口罩,比如格力、比亚迪、中

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