中国最牛刻蚀机厂商：3nm在研发，5nm已被台积电用于华为芯生产

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在芯片的制造过程中，有三大关键工序，分别是光刻、刻蚀、沉积。这三大工序在生产的过程中，不断的重复循环，最终制造成为芯片。

而在这三大关键工序中，要用到三种关键设备，分别是光刻机、刻蚀机、镀膜设备。这三大设备占所有制造设备投入的25%、15%、15%左右，是三种占比最高的设备了，可见这三种设备是多么的重要了。

目前在光刻机上，国内的技术是较为落后的，ASML已经实现了5nm工艺节点，而国内的水平还在90nm工艺节点上，差距至少是10年以上。

但在刻蚀机上，国内的技术却是世界领先的，目前最牛的刻蚀机厂商已经在研发3nm的刻蚀机了，而5nm的刻蚀机已经被台积电用于华为麒麟1020芯片的生产了。

这家厂商就是中微半导体，2004年由海外归国的尹志尧博士创办。在创办这家企业时，尹志尧博士已经是60岁了。而在创办中微半导体之前，他曾在应用材料任职13年。

而应用材料是全球第一大半导体设备厂商，在刻蚀领域是全球最领先的厂商，而这也是尹志尧博士在应用材料负责的项目之一，所以回国创业时，也选择了刻蚀设备，并表示过去是为别人作嫁衣裳，现在要报效祖国。

而在创办公司后，中微半导体先后成功开发和销售了适用于65/45/28/20/14/10/7纳米工艺制程的一系列等离子体刻蚀设备，一直与当时的世界先进水平同步。

去年中微就交付了5nm的刻蚀机给台积电验证，并于今年正式用于5nm芯片的生产，目前华为麒麟1020、苹果A14已经在生产之中了，使用的就有中微半导体的刻蚀机了。

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